从三氟化氮中去除污染物的方法和设备

摘要

通过使用辐射引起杂质中化学键的解离以形成解离产物并由此使得比从工艺流体中去除杂质更容易地从工艺流体中去除解离产物，可有效地获得具有10ppm或更低的杂质含量的高纯度三氟化氮工艺流体。

主权项

一种纯化包含三氟化氮和一种或多种污染物的工艺流体的方法，包括以下步骤：用光辐射所述流体，其中所述光包含被所述一种或多种污染物吸收的频率，以使得所述一种或多种污染物的一个或多个化学键解离从而形成一种或多种解离产物。