发明名称 |
一种去除黑蜡、松香和石蜡混合物的半导体硅片清洗剂及其制备方法 |
摘要 |
一种去除黑蜡、松香和石蜡混合物的半导体硅片清洗剂,由下列重量份的原料制成:壬基酚聚氧乙烯醚2-3、脂肪醇聚氧乙烯醚3-4、十二烷基醇酰胺磷酸脂钠1-2、三聚磷酸钠2-3、十二烷基酚聚氧乙烯醚5-6、十二烷基苯磺酸钠2-3、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明的清洗剂主要使用非离子等多种表面活性剂,与水形成乳液,对黑蜡、石蜡、松香、脂类等有优异的溶解能力,对无机物颗粒、金属离子等也具有优异的清洗能力;该清洗剂无毒无腐蚀性,不污染环境,并可降低清洗成本。本发明的助剂能够在电路板表面形成保护膜,隔绝空气,防止大气中水及其他分子腐蚀电路板,抗氧化,方便下一步制作工艺进行。 |
申请公布号 |
CN103589525A |
申请公布日期 |
2014.02.19 |
申请号 |
CN201310527795.7 |
申请日期 |
2013.10.31 |
申请人 |
合肥中南光电有限公司 |
发明人 |
郭万东;孟祥法;董培才 |
分类号 |
C11D1/83(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I;C11D3/065(2006.01)I;C11D3/20(2006.01)I;C11D3/34(2006.01)I;C11D3/36(2006.01)I;C11D3/28(2006.01)I |
主分类号 |
C11D1/83(2006.01)I |
代理机构 |
安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 |
代理人 |
余成俊 |
主权项 |
一种去除黑蜡、松香和石蜡混合物的半导体硅片清洗剂,其特征在于由下列重量份的原料制成:壬基酚聚氧乙烯醚2‑3、脂肪醇聚氧乙烯醚3‑4、十二烷基醇酰胺磷酸脂钠1‑2、三聚磷酸钠2‑3、十二烷基酚聚氧乙烯醚5‑6、十二烷基苯磺酸钠2‑3、乙醇30‑40、助剂4‑5、去离子水100‑120;所述助剂由下列重量份的原料制成:硅烷偶联剂KH‑570 2‑3、抗氧剂1035 1‑2、植酸1‑2、吗啉3‑4、甲基丙烯酸‑2‑ 羟基乙酯3‑4、乙醇12‑15;制备方法是将硅烷偶联剂KH‑570 、植酸、乙醇混合,加热至60‑70℃,搅拌20‑30分钟后,再加入其它剩余成分,升温至80‑85℃,搅拌30‑40分钟,即得。 |
地址 |
231600 安徽省合肥市肥东县经济开发区和平路7号 |