掩膜板

摘要

本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种掩膜板，包括掩膜面及与所述掩膜面相对的非掩膜面，其特征在于，所述非掩膜面为由四周至中心凹陷的曲面。本实用新型通过在掩膜板制作程序中，对掩膜板的非掩膜面进行研磨，使得掩膜板的非掩膜面由四周向中心向内凹陷呈曲面，以达到对自重导致的弯曲进行补偿，使掩膜面接近于平面，从而达到曝光后的光刻胶图形关键尺寸值在整体区域精细化、均匀化的效果。

主权项

一种掩膜板，包括掩膜面及与所述掩膜面相对的非掩膜面，其特征在于，所述非掩膜面为由四周至中心凹陷的曲面。