| 发明名称 | 肼配位Cu硫属化物络合物及其制造方法、光吸收层形成用涂布液、以及光吸收层形成用涂布液的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种肼配位Cu硫属化物络合物，其是通过在肼的存在下使Cu或Cu2Se与硫属元素在不含胺系溶剂的二甲基亚砜中反应、并在所得到的溶液中加入不良溶剂或对所得到的溶液进行浓缩和过滤而得到的。 | ||
| 申请公布号 | CN103597615A | 申请公布日期 | 2014.02.19 |
| 申请号 | CN201280027586.X | 申请日期 | 2012.06.08 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 桑原大;三隅浩一;宫本英典 |
| 分类号 | H01L31/0749(2012.01)I;H01L31/032(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0749(2012.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种肼配位Cu硫属化物络合物，其是通过在肼的存在下使Cu或Cu2Se与硫属元素在不含胺系溶剂的二甲基亚砜中反应、并在所得到的溶液中加入不良溶剂或对所得到的溶液进行浓缩和过滤而得到的。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||