发明名称 透明导电性层叠体及具备该层叠体的触摸面板
摘要 本发明提供一种透明导电性层叠体,是在透明的薄膜基材的一个面经由电介质薄膜设有透明的导电性薄膜、在透明的薄膜基材的另一个面经由透明的粘合剂层贴合有透明基体的透明导电性层叠体,其特征是,上述透明基体是至少将2张透明的基体薄膜经由透明的粘合剂层层叠的层叠透明基体;上述电介质薄膜由第一透明电介质薄膜和第二透明电介质薄膜形成,所述第一透明电介质薄膜由相对折射率为1.6~1.9的SiOx膜(x为1.5以上且小于2)制成,所述第二透明电介质薄膜由SiO2膜制成。所述透明导电性层叠体的表面压力耐久性出色。
申请公布号 CN102298985B 申请公布日期 2014.02.19
申请号 CN201110139234.0 申请日期 2007.06.07
申请人 日东电工株式会社 发明人 梨木智刚;菅原英男;吉武秀敏
分类号 H01B5/14(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I 主分类号 H01B5/14(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 雒运朴
主权项 一种透明导电性层叠体,其特征在于,其是依次具有层叠透明基体、第一粘合剂层、透明薄膜基材、第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜以及透明导电性薄膜的透明导电性层叠体,所述层叠透明基体依次具有第一透明基体薄膜、第二粘合剂层和第二透明基体薄膜,所述第一透明电介质薄膜的厚度为1nm~30nm,所述第二透明电介质薄膜的厚度为10nm~70nm,所述透明导电性薄膜的厚度为20nm~35nm,所述第一粘合剂层的厚度为5~100μm,弹性系数设定为1~100N/cm2的范围;所述第二粘合剂层的厚度为5~100μm。
地址 日本大阪府