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<p>L'invention concerne un procédé de traitement pour rendre hydrophile une surface d'une couche en un matériau fluoré, un procédé de dépôt d'une couche en un matériau métallique ou semi-conducteur sur la surface d'une couche en un matériau fluoré, ainsi qu'un dispositif comprenant une couche en un matériau fluoré, dont une surface a été traitée par le procédé de traitement de l'invention, et une couche en un matériau métallique. Le procédé de l'invention comprend une étape a) de dépôt d'une couche d'un (oxo)hydroxyde d'un élément du groupe des métaux alcalino-terreux ou du groupe II ou III du tableau périodique des éléments ou d'une terre rare ou d'un mélange de ceux-ci, sur ladite surface. Le procédé de l'invention trouve application dans le domaine de l'électronique, en particulier.</p> |
