Siliziumsubstrat und Verfahren zu dessen Herstellung

摘要

Es werden ein Siliziumsubstrat und ein Verfahren zu dessen Herstellung vorgeschlagen, wobei das Siliziumsubstrat umfasst: ein erstes und ein zweites Siliziumsubstrat mit entsprechenden Bondingoberflächen; einen Siliziumoxidfilm, der zwischen dem ersten und dem zweiten Siliziumsubstrat gebildet ist und wenigstens einen Graben aufweist, der mit der Außenseite in Verbindung steht; und einen luftdichten Abschnitt, der an einem Endabschnitt des Grabens gemäß der Oxidation des Siliziumoxidfilms gebildet ist.