| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft einen Kipp- und/oder Zentriertisch (200, 300) für eine Messmaschine (100) zur Einstellung einer Lage- und/oder Winkelposition eines Messobjektes (40 in einem Messraum (50). Die Lage- und Winkelposition des Messobjekts (40) relativ zum Messraum (50) ist dabei durch zumindest eine mittelbare Krafteinwirkung auf ein Zentrier- und/oder Kippelement (320, 310) durch zumindest ein Stellelement (331, 332) veränderbar ist. Ferner weist der Kipp- und/oder Zentriertisch (200, 300) zumindest einen ersten und einen zweiten Tischaufbau (11, 12) auf, die relativ zueinander beweglich sind. Auf dem ersten und/oder der zweiten Tischaufbau (11, 12) ist zumindest das eine Stellelement (331, 332) zur Einstellung der Lage- und/oder der Winkelposition des Messobjekts (40) angeordnet. Das Kippelement (310) liegt mit einer ersten Fläche (312) zumindest teilweise flächenbündig auf einer ersten Fläche (322) des Zentrierelementes verschiebbar auf, wobei eine der beiden Flächen (312, 322) ballig und die andere Fläche dazu gegenballig oder dazu konisch ausgeführt ist, derart, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Kippelement (310) durch das zumindest eine Stellelement (331 eine Kippbewegung des Kippelementes (310) relativ zum Zentrierelement (320) erfolgt, um eine Winkellage des Messobjektes (40) im Messraum (50) zu verändern. Das Zentrierelement (320) liegt mit einer zweiten Fläche (321) zumindest teilweise flächenbündig auf einer Auflagefläche (13) des ersten Tischaufbaus (12) verschiebbar auf, wobei die zweite Fläche (321) des Zentrierelementes (320) und die Auflagefläche (13) des ersten Tischaufbaus (12) jeweils eben ausgeführt sind, derart, dass durch die zumindest mittelbare Krafteinwirkung auf das Zentrierelement (320) durch das zumindest eine Stellelement (332 eine Bewegung des Zentrierelements (320) relativ zur Auflagefläche (13) des ersten Tischaufbaus (12) erfolgt, um eine Positionslage des Messobjektes (40) im Messraum (50) zu verändern.</p> |
