System zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung, die hergestelle Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung des Systems

摘要

Diese Offenbarung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung. Das Verfahren umfasst das Vergleichen eines Schaltbild-Entwurfs einer Halbleitervorrichtung mit einem Layout-Entwurf der Halbleitervorrichtung. Das Verfahren umfasst weiter das Erzeugen von Layout-Stil-Information, gestützt auf den Layout-Entwurf, und das Erzeugen von Array-Rand-Information, gestützt auf den Layout-Entwurf und den Schaltbild-Entwurf. Das Verfahren umfasst weiter das selektive Überarbeiten des Layout-Entwurfs unter Verwendung intelligenter Hilfszellen-Einfügung mittels der Layout-Stil-Information und der Array-Rand-Information. Das Verfahren umfasst weiter das Ausführen einer Überprüfung einer Entwurfsregel für den überarbeiteten Layout-Entwurf mittels der Layout-Stil-Information und der Array-Rand-Information. Diese Offenbarung betrifft auch ein System zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und eine Halbleitervorrichtung.