发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur besseren Ausnutzung von Halbleitermaterial
摘要 <p>Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, bei dem auf einem Wafer (1) Chips (2) strukturiert, getestet und zu Dies vereinzelt werden, wobei bei einem während des Verfahrens zerbrochenen Wafer (1) die nicht beschädigten Chips (2) eines von mindestens einem Randabschnitt (11) und mindestens einer Bruchkontur (12) begrenzten Bruchstücks (15) des Wafers (1) wie üblich weiterverarbeitet werden und das Bruchstück (15) bei der Weiterverarbeitung so positioniert wird, dass es dieselbe Ausrichtung hat als wäre es noch Bestandteil eines unbeschädigten Wafers (1).</p>
申请公布号 DE102008007603(B4) 申请公布日期 2014.02.13
申请号 DE20081007603 申请日期 2008.02.04
申请人 SUSS MICROTEC TEST SYSTEMS GMBH 发明人 FEHRMANN, FRANK;BUSCH, JULIANE;HAENSEL, VOLKER;OUELLETTE, DANIEL;KANEV, STOJAN
分类号 H01L21/78;H01L21/67 主分类号 H01L21/78
代理机构 代理人
主权项
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