发明名称 |
用于高压半导体器件的拐角布局及其制备方法 |
摘要 |
本发明提出了一种用于高压半导体器件的拐角布局及其制备方法,使半导体器件的击穿电压达到最大。该器件包括条纹晶胞阵列的第一和第二子集。第一阵列中每个条纹晶胞的末端都与最近的端接器件结构保持一段统一的距离。在第二子集中,配置有源晶胞区的拐角附近条纹晶胞末端,通过将每个条纹晶胞末端都与最近的端接器件结构保持不一样的距离,使击穿电压达到最大。 |
申请公布号 |
CN103579301A |
申请公布日期 |
2014.02.12 |
申请号 |
CN201310319450.2 |
申请日期 |
2013.07.26 |
申请人 |
万国半导体股份有限公司 |
发明人 |
管灵鹏;安荷·叭剌 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 |
代理人 |
张静洁;徐雯琼 |
主权项 |
一种半导体器件,其特征在于,包括:一个掺杂层;一个具有多个有源晶胞结构的有源晶胞区,具有的第一末端和第二末端,形成在掺杂层中,并排布在条纹晶胞阵列中;以及一个具有多个端接器件结构的端接区,形成在包围着有源晶胞区的掺杂层中,其中配置条纹晶胞的第一子集,通过使第一子集中每个条纹晶胞的末端都与最近的端接器件结构保持一段统一的距离,使半导体器件的击穿电压达到最大;并且其中配置有源晶胞区的拐角区域附近的条纹晶胞的第二子集,通过使第二子集中每个条纹晶胞的末端都距离最近的端接器件结构不一样远,使击穿电压达到最大。 |
地址 |
美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475号 |