发明名称 | 放电加工工艺、用于放电加工的物件及放电冷却剂 | ||
摘要 | 本发明涉及放电加工工艺、用于放电加工的物件及放电冷却剂,具体而言,公开了一种放电加工工艺、一种用于放电加工的物件和一种导电的放电加工冷却剂,该放电加工工艺包括放电加工部件的目标区域。该物件包括不导电层、导电层和在不导电层上的目标区域,该导电的放电加工冷却剂包括碳氢化合物液体和悬浮在碳氢化合物液体内的碳粉。 | ||
申请公布号 | CN103567578A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
申请号 | CN201310340556.0 | 申请日期 | 2013.08.07 |
申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 冯干江;J.C.谢菲尔;M.D.阿内特;刘山 |
分类号 | B23H1/00(2006.01)I | 主分类号 | B23H1/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 金飞;谭祐祥 |
主权项 | 一种放电加工工艺,包含:放电加工物件的目标区域;其中所述目标区域位于所述物件的不导电层上,且位于所述物件的导电层和放电加工系统的电极之间。 | ||
地址 | 美国纽约州 |