| 发明名称 | 掩模块件及使用其的有机气相沉积装置与热蒸镀装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩模块件及使用其之有机气相沉积装置与热蒸镀装置。掩模块件设置在一气体出口与一待镀基板之间。掩模块件包含有一像素掩模与一阻热掩模。像素掩模设置在气体出口与待镀基板之间，且具有多个第一开口。阻热掩模设置在气体出口与像素掩模之间，且具有多个第二开口，其中各第二开口对应至少一第一开口设置。 | ||
| 申请公布号 | CN103572245A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
| 申请号 | CN201210279695.2 | 申请日期 | 2012.08.07 |
| 申请人 | 联胜(中国)科技有限公司;胜华科技股份有限公司 | 发明人 | 王文俊;康恒达;苏国彰;黄湘霖 |
| 分类号 | C23C16/04(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人 | 江耀纯 |
| 主权项 | 一种掩模块件，设置在一气体出口与一待镀基板之间，其特征在于，包含有：一像素掩模，设置在所述气体出口与所述待镀基板之间，且具有多个第一开口；以及一阻热掩模，设置在所述气体出口与所述像素掩模之间，且具有多个第二开口，其中各所述第二开口对应至少一所述第一开口设置。 | ||
| 地址 | 523808 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区高雄路二号 | ||