| 发明名称 | 堆叠膜阈构件、装置和制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种堆叠膜阈构件、装置和制造方法。一种构件包括微全息图层，其中，微全息图层包括与功能膜层交错的对光呈惰性的层。功能膜层由在被光束照射时经历其折射率的变化而在被不同光束照射时不经历其折射率的变化的材料制成。构件还可包括与多个全息图层交错的隔膜和其它元件(例如，伺服层、涂层等)，以便包括数据存储装置。还公开了制造构件和装置的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103578493A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
| 申请号 | CN201310327617.X | 申请日期 | 2013.07.31 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 史晓蕾;E.P.博登;陈国邦;P.W.洛琳;V.P.奥斯特罗弗霍夫;赵日安 |
| 分类号 | G11B7/0065(2006.01)I;G11B7/007(2006.01)I;G11B7/24038(2013.01)I;G11B7/24044(2013.01)I | 主分类号 | G11B7/0065(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 肖日松;谭祐祥 |
| 主权项 | 一种构件，其包括：微全息图层，其中，所述微全息图层包括与多个功能膜层交错的多个对光呈惰性的层，其中，所述多个功能膜层包括在被第一光束照射时经历其折射率的变化并在被第二光束照射时不经历其折射率的变化的材料。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||