聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法

摘要

本发明公开了一种聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法，该方法包括以下步骤：根据专利ZL200710134575.2的方法获得聚合物I填充石英纤维空隙的复合结构；将上述结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚合物I微结构；在上述中空微结构阵列中填充聚合物II；去除聚合物I，获得聚合物II的微米/亚微米线阵列结构。其中，聚合物I为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、松香等可在常温下被有机溶剂溶解的聚合物；聚合物II为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂、聚二甲基硅氧烷等聚合物。本发明方法新颖，获得的微结构可在光电等领域获得应用。

主权项

聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法，其特征是，所述方法包括以下步骤：（1）根据专利ZL200710134575.2的方法获得聚合物I填充石英纤维空隙的复合结构；（2）将上述复合结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚合物I微结构；（3）在上述中空微结构阵列中填充聚合物II；（4）去除聚合物I，获得聚合物II的微米/亚微米线阵列结构。