用于通过高压蒸发进行高速率涂覆的方法和设备

摘要

本发明涉及具有非常高沉积速率、大涂覆厚度和高材料产量的真空涂覆方法以及用于执行该涂覆处理的设备。为了解决在传统真空蒸发方法中一方面涂覆厚度均匀性与另一方面材料产量和涂覆速率之间的矛盾，衬底形成了基本上闭合的涂覆室的边界，该涂覆室得到蒸发源的供应。所述蒸发室的壁和不应该被涂覆的所有表面受到温度控制或者设置有抗粘性层，使得蒸气不能在其上冷凝并且散射回到涂覆室中。因而，在涂覆室中建立非常高的蒸气压力，并造成在衬底上很高的冷凝速率和涂覆厚度的均匀化。因为衬底是仅有的蒸气能在其上冷凝的表面，所以几乎没有材料损失，并且产量极高。借助于蒸发源的脉冲操作能实现短周期的涂覆。

主权项

一种用于在高真空中进行高速率金属涂覆的设备，包括：a.处于高真空内的涂覆室，所述涂覆室包括至少一个通往所述高真空的开口，使得在所述涂覆室中形成高真空条件；b.至少一个蒸发源，其被布置成使得其将金属蒸气颗粒发射到所述涂覆室中，其中，所述蒸发源在涂覆阶段期间在所述涂覆室中产生至少10Pa的金属蒸气压力；c.其中，所述涂覆室被限界在衬底的至少一侧上；d.不需要涂覆的所有表面设置有非粘涂层；以及e.所述涂覆室通往所述高真空的所有开口的总截面小于所述衬底的涂覆表面的10％，使得在所述涂覆阶段期间所述金属蒸气的冷凝速率大于10nm/s。