| 发明名称 | 清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法 | ||
| 摘要 | 提供一种能够使制品品质提高的清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法。实施方式的清洗液生成装置（2）具备：储存磷酸水溶液的储存部（11），将磷酸水溶液加热的加热部（12），浸渍在储存部（11）内的磷酸水溶液中的第1硅部件（13）及第2硅部件（14），以及使第1硅部件（13）与第2硅部件（14）之间产生电位差的电压施加部（15）。 | ||
| 申请公布号 | CN103579055A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
| 申请号 | CN201310346630.X | 申请日期 | 2013.08.09 |
| 申请人 | 芝浦机械电子株式会社 | 发明人 | 宫崎邦浩;桧森洋辅;林航之介;安部正泰 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 徐殿军 |
| 主权项 | 一种清洗液生成装置，其特征在于，具备：储存部，储存磷酸水溶液；加热部，将上述磷酸水溶液加热；第1硅部件及第2硅部件，浸渍在上述储存部内的磷酸水溶液中；以及电压施加部，使上述第1硅部件与上述第2硅部件之间产生电位差。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||