发明名称 监测芯片内部电位的聚焦离子束方法
摘要 本发明公开了一种监测芯片内部电位的聚焦离子束方法,包括:步骤1、对芯片做表面处理;步骤2、用聚焦离子束暴露出需要做桥联的监测节点A;步骤3、通过版图检查,找出距离所述监测节点A最近的不相关焊盘B点位置并将所述监测节点A和所述焊盘B进行桥联;步骤4、实现所述监测节点A和所述焊盘B之间桥联以后,采用聚焦离子束切除焊盘B的负载,使所述焊盘B处于浮空状态;步骤5、进行打线操作,把所述焊盘B引至封装端并连接到测试仪,进行动态信号或者多通道信号测量。本发明能在现有调查中推进使用,可以小成本快速排除设计问题或者工艺问题。
申请公布号 CN103579034A 申请公布日期 2014.02.12
申请号 CN201210262421.2 申请日期 2012.07.27
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 马香柏;芮志贤;张君
分类号 H01L21/66(2006.01)I 主分类号 H01L21/66(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 丁纪铁
主权项 一种监测芯片内部电位的聚焦离子束方法,其特征在于,包括:步骤1、对芯片做表面处理;步骤2、用聚焦离子束暴露出需要做桥联的监测节点(A);步骤3、通过版图检查,找出距离所述监测节点(A)最近的不相关焊盘(B)点位置并将所述监测节点(A)和所述焊盘(B)进行桥联;步骤4、实现所述监测节点(A)和所述焊盘(B)之间桥联以后,采用聚焦离子束切除焊盘(B)的负载,使所述焊盘(B)处于浮空状态;步骤5、进行打线操作,把所述焊盘(B)引至封装端并连接到测试仪,进行动态信号或者多通道信号测量。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号