| 发明名称 | 氧化铈抛光粉及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种氧化铈抛光粉。氧化铈的纯度CeO2/TREO≥99.95%；氧化铈为晶型为单相立方晶系的CeO2粉末；氧化铈的形貌为圆饼状，平均粒径为1μm。还公开了其制备方法，包括氯化铈水溶液的制备、沉淀、脱水、焙烧、粉碎等。与现有制备方法相比，本发明制备的抛光粉为氧化铈抛光粉，在制备过程中无需引入F，具有工艺简单，成本低，无废水的优点；氧化铈抛光粉对制品的抛光过程中无划伤、抛光精度高等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN103571334A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
| 申请号 | CN201310542032.X | 申请日期 | 2013.11.05 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | 发明人 | 赵月昌;高玮;陈曦;蒙素玲;郝祥;杨筱琼 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;C01F17/00(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人 | 左祝安 |
| 主权项 | 氧化铈抛光粉，其特征在于，氧化铈的纯度CeO2/TREO≥99.95%；氧化铈为晶型为单相立方晶系的CeO2粉末；氧化铈的形貌为圆饼状，平均粒径为1μm。 | ||
| 地址 | 201613 上海市松江区中辰路128号1幢1层B区 | ||