发明名称 一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路及仿真方法
摘要 本发明涉及半导体技术,具体的说是涉及一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路及其仿真方法。本发明的一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路,包括PMOS管,其特征在于,所述PMOS管的漏极与可变电压源Vnh连接、衬底与固定电压源VHV连接、栅极与源极接地。本发明的有益效果为,高压PMOS管的源级与衬底之间的电势差始终为固定的应用高压电源电压VHV,该电势差大小等于衬底所加固定电压值,本发明提供的SOI高压PMOS管击穿电压仿真电路及方法弥补了常规仿真电路及测试方法中SOI高压PMOS管的源级与衬底之间的电势差随漏极所加电压Vnh变化而变化这一缺陷,与实际应用中SOI高压PMOS管的情况更加符合。本发明尤其适用于SOI高压PMOS器件的仿真。
申请公布号 CN103579352A 申请公布日期 2014.02.12
申请号 CN201310602790.6 申请日期 2013.11.22
申请人 电子科技大学 发明人 乔明;何逸涛;张康;代刚;吴文杰;张波
分类号 H01L29/78(2006.01)I;G05B17/02(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人 李顺德;王睿
主权项 一种用于SOI高压PMOS器件的仿真电路,包括PMOS管,其特征在于,所述PMOS管的漏极与可变电压源Vnh连接、衬底与固定电压源VHV连接、栅极与源极接地。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号