发明名称 | 在基底中制作多个沟槽的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种在基底中制作多个沟槽的方法,包括:提供一基底;在基底上形成一掩模层,掩模层具有至少一第一开口以及至少一第二开口,其中第二开口大于第一开口,且第一开口与第二开口皆暴露出基底;在第二开口的底部形成一牺牲层,牺牲层的材质不同于掩模层的材质;以及以掩模层为掩模,蚀刻第一开口与第二开口下方的基底以及牺牲层,以在基底中形成多个沟槽。本发明能够有效提高不同开口宽度的沟槽的深度一致性。 | ||
申请公布号 | CN103579116A | 申请公布日期 | 2014.02.12 |
申请号 | CN201210285010.5 | 申请日期 | 2012.08.10 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 |
分类号 | H01L21/8242(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01)I |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 刘晓飞;张龙哺 |
主权项 | 一种在基底中制作多个沟槽的方法,其特征在于,包括:提供一基底;在该基底上形成一掩模层,该掩模层具有至少一第一开口以及至少一第二开口,该第二开口大于该第一开口,且该第一开口与该第二开口皆暴露出该基底;在该第二开口的底部形成一牺牲层,该牺牲层的材质不同于该掩模层的材质;以及以该掩模层为掩模,蚀刻该第一开口下方的该基底与该第二开口下方的该基底以及该牺牲层,以在该基底中形成多个沟槽。 | ||
地址 | 中国台湾桃园县 |