| 摘要 |
本发明提供一种清洁基板用单晶圆处理设备。该设备包括基板支撑构件，其系包括旋转头(以将基板置于其上)，处理碗(processing bowl)(配置成包围旋转头且配接以收集自基板散射之处理液)、及一摆动喷嘴单元(配接以将处理液以摆动动作转动而注射至置于旋转头上之基板)，其中摆动喷嘴单元包括喷嘴部分，其包括喷嘴主体(由供应其中配置有处理液供应管之内部路径的内树脂管、配置成包围内树脂管之金属管、与配置成包围金属管之外树脂管组成)、及一喷嘴驱动器(配接以将喷嘴部分于Θ-轴方向转动且将喷嘴部分于z-轴方向上下移动)。 |
