| 摘要 |
本发明的雷射退火方法及装置，系当为透镜阵列方式的均化器(homogenizer)光学系统时，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)沿对应于线状光束的长轴方向之方向(X方向)往复移动，一边进行雷射照射，藉此，入射于设置在后段的构成长轴用集光光学系统之大型透镜(长轴用聚光透镜(22))的雷射光(1)的入射角及强度系依每一雷射发射而变化，因此，纵条纹系大幅地减少。此外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)沿对应于线状光束的长轴方向之方向(Y方向)往复移动，一边进行雷射照射，藉此，入射于设置在后段的构成短轴用集光光学系统之大型透镜(投影透镜(30))的雷射光(1)的入射角及强度系依每一雷射发射而变化，因此，横条纹系大幅地减少。 |
