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经营范围
发明名称
压印微影方法及装置
摘要
本发明揭示一种压印微影对准装置,其包括至少两个侦测器,该至少两个侦测器经组态以侦测一压印模板对准标记,其中该对准装置进一步包含对准辐射调整光学仪器,该等对准辐射调整光学仪器经组态以提供供该至少两个对准侦测器接收对准辐射之部位的调整。
申请公布号
TWI426355
申请公布日期
2014.02.11
申请号
TW099135088
申请日期
2010.10.14
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
威斯特 山达 佛芮得瑞克;柯瑞杰 史地格曼 伊凡 温得拉
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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