半导体设备及其清洁方法

摘要

本发明揭露一种半导体设备，该半导体设备包含一反应室、一可动承座以及至少一清洁刷头。反应室内部具有至少一待清洁部分；可动承座设置于反应室之内部，可动承座可承载一晶圆承座；清洁刷头可接触待清洁部分，且该清洁刷头可相对于待清洁部分进行运动，藉以清除附着于待清洁部分之残留物。