| 摘要 |
本发明提供一种图案形成方法，包含以下步骤：将含有具有内酯作为密合性基之重复单位及具有酸不安定基之重复单位共聚合而成之高分子化合物、光酸发生剂、硷发生剂的第1正型光阻材料涂布在基板上，并形成第1光阻膜；将前述第1光阻膜曝光后进行加热处理并显影，而形成第1光阻图案；将第1光阻图案加热并以硷发生剂使胺化合物发生而对酸失活，并在前述基板上之前述第1光阻图案上涂布以不溶解该图案之醇、或醇及醚作为溶剂之第2正型光阻材料，而形成第2光阻膜；将前述第2光阻膜曝光进行PEB后显影，而形成第2光阻图案。;依照本发明，在第1光阻图案之图案未形成部分形成第2图案，进行使图案间之间距(pitch)成为一半的双重图案化，能以一次乾蚀刻将基板加工。 |
