发明名称 Galvanische Beschichtungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb
摘要 <p>Die Erfindung betrifft eine galvanische Beschichtungsanlage (1) und ein Verfahren zum Betrieb dieser zur nacheinander erfolgenden Aufbringung mehrerer Schichten auf ein als Elektrode geschaltetes Werkstück (5) mittels eines auf die jeweilige Schicht abgestimmten Elektrolyten und Beschaltung des Werkstücks (5) gegen eine Gegenelektrode (4) sowie einer Spülung des Werkstücks (5) zumindest zwischen der Aufbringung zweier Schichten. Um eine derartige Beschichtungsanlage (1) mit verringertem Platzbedarf, mit einem verringerten Handhabungsaufwand, geringeren Herstellungskosten und einer geringeren Belastung mit Industrieabfall ausbilden zu können, sind ein einziger Arbeitsbehälter (2) mit einer beschichtungsneutralen Gegenelektrode (4) und mehrere, die notwendigen Arbeitslösungen (9, 10, 11, 12) enthaltende Vorratsbehälter (14, 15, 16, 17) vorgesehen und zwischen Arbeitsbehälter (2) und Vorratsbehältern (14, 15, 16, 17) eine Speiseleitung (18) zum wechselseitigen Beschicken des Arbeitsbehälters (2) mit Inhalten der Vorratsbehälter (14, 15, 16, 17) vorgesehen.</p>
申请公布号 DE102012106986(A1) 申请公布日期 2014.02.06
申请号 DE201210106986 申请日期 2012.07.31
申请人 BELOV, SERGEI;SCHAAF, I. HARRY 发明人 SCHAAF, I. HARRY;BELOV, SERGEI
分类号 C25D19/00;C25D5/10;C25D21/12 主分类号 C25D19/00
代理机构 代理人
主权项
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