掩模板清洗设备

摘要

本实用新型涉及一种掩模板清洗设备，包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，电解清洗装置内盛装有清洗液，清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，高速气体带动清洗液对掩模板进行清洗；漂洗装置邻接于电解清洗装置设置，对掩模板进行漂洗；干燥装置邻接于漂洗装置，对漂洗后的掩模板进行干燥处理。本实用新型可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会地掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。

主权项

一种掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，其特征在于：包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。