发明名称 氧化物烧结体、其制造方法以及氧化物烧结体制造用原料粉末
摘要 本发明提供一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa[式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z]表示的氧化物烧结体,其特征在于,该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的浓度为20ppm以下。本发明提供能够应用于制造以下IGZO靶的技术:可以实现该溅射用靶的高密度化及低体电阻化,可以防止靶在制造过程中的膨胀或破裂,并且可以将结瘤的产生抑制到最低限度,可以抑制异常放电,并且可以进行DC溅射。
申请公布号 CN102459122B 申请公布日期 2014.02.05
申请号 CN201080024800.7 申请日期 2010.05.28
申请人 吉坤日矿日石金属株式会社 发明人 生泽正克;矢作政隆;长田幸三;挂野崇;高见英生
分类号 C04B35/00(2006.01)I;C01G15/00(2006.01)I;C04B35/453(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I 主分类号 C04B35/00(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 王海川;穆德骏
主权项 一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa表示的氧化物烧结体,式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z,其特征在于,作为该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的氯与镓的化合物的浓度为20ppm以下。
地址 日本东京
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