| 发明名称 | 用于铝电解电容器的电极材料及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于铝电解电容器的电极材料，该电极材料不需要进行蚀刻处理且其抗弯强度得到改善。具体而言，本发明提供一种用于铝电解电容器的电极材料，其作为构成要件包含铝及铝合金的至少一种粉末的烧结体以及支持所述烧结体的铝箔基材，其特征在于，（1）所述粉末的平均粒径D50为0.5-100μm；（2）所述烧结体形成于所述铝箔基材的单面或双面上，所述烧结体的总厚度为20-1000μm；（3）所述铝箔基材的厚度为10-200μm，硅含量为10-3000ppm。 | ||
| 申请公布号 | CN103563028A | 申请公布日期 | 2014.02.05 |
| 申请号 | CN201280025487.8 | 申请日期 | 2012.05.21 |
| 申请人 | 东洋铝株式会社 | 发明人 | 平敏文;目秦将志 |
| 分类号 | H01G9/055(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01G9/055(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 谢顺星;张晶 |
| 主权项 | 一种用于铝电解电容器的电极材料，所述电极材料作为构成要件包含铝及铝合金的至少一种粉末的烧结体以及支持所述烧结体的铝箔基材，其特征在于，（1）所述粉末的平均粒径D50为0.5‑100μm；（2）所述烧结体形成于所述铝箔基材的单面或双面上，所述烧结体的总厚度为20‑1000μm；（3）所述铝箔基材的厚度为10‑200μm，硅含量为10‑3000ppm。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||