基板保持装置、具备其之曝光装置、方法

摘要

本发明提供一种基板保持装置、曝光装置、组件制造方法、液体回收方法、曝光方法、元件制造方法，其中基板保持装置能相对透过投影光学系统所照射的曝光用光，保持基板并移动，该基板保持装置具备：保持部，保持该基板；平坦部，设置成包围该保持部；以及回收部，用以回收已渗入形成于被保持在该保持部的该基板与该平坦部之间的间隙的该液体；该回收部包含多孔体或网构件、及渗入该间隙且经由该多孔体或该网构件的该液体流动的流路。本发明的基板保持装置，不仅板体的更换容易，且维修亦较容易。因此，适合用于液浸曝光。

主权项

一种基板保持装置，能相对透过投影光学系统所照射的曝光用光，保持基板并移动，其特征在于，该基板保持装置具备：保持部，保持该基板；平坦部，设置成包围该保持部；以及回收部，用以回收已渗入形成于被保持在该保持部的该基板与该平坦部之间的间隙的该液体；该回收部包含多孔体或网构件、及渗入该间隙且经由该多孔体或该网构件的该液体流动的流路。