发明名称 |
稳定性好的电镀液 |
摘要 |
本发明公开一种稳定性好的电镀液,所述的稳定性好的电镀液包括分散剂、减水剂和硅烷偶联剂组合而成,所述分散剂是十二烷基硫酸钠,所述减水剂是聚羧酸,所述硅烷偶联剂是丁二烯基三乙氧基硅烷,所述的十二烷基硫酸钠占稳定性好的电镀液总体分量的35%-45%,所述的聚羧酸占稳定性好的电镀液总体分量的22%-33%,所述的丁二烯基三乙氧基硅烷占稳定性好的电镀液总体分量的30%-36%,本发明提供一种稳定性好的电镀液,具有稳定性好、优异的均镀能力,电镀速度高的优点。 |
申请公布号 |
CN103556189A |
申请公布日期 |
2014.02.05 |
申请号 |
CN201310517144.X |
申请日期 |
2013.10.29 |
申请人 |
常熟市伟达电镀有限责任公司 |
发明人 |
殷惠良 |
分类号 |
C25D3/02(2006.01)I |
主分类号 |
C25D3/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) 11341 |
代理人 |
李涛 |
主权项 |
一种稳定性好的电镀液,其特征在于:所述的稳定性好的电镀液包括分散剂、减水剂和硅烷偶联剂组合而成,所述分散剂是十二烷基硫酸钠,所述减水剂是聚羧酸,所述硅烷偶联剂是丁二烯基三乙氧基硅烷,所述的十二烷基硫酸钠占稳定性好的电镀液总体分量的35%‑45%,所述的聚羧酸占稳定性好的电镀液总体分量的22%‑33%,所述的丁二烯基三乙氧基硅烷占稳定性好的电镀液总体分量的30%‑36%。 |
地址 |
215500 江苏省苏州市常熟市海虞镇邓南村 |