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发明名称
高分子薄膜及其制造方法暨包含该高分子薄膜的光电元件及其制造方法
摘要
本发明提供一种高分子薄膜、包含该高分子薄膜之光电元件以及制造该高分子薄膜以及该光电元件之方法。根据本发明之高分子薄膜系经由一变形制程形成于一基材上。特别地,该高分子薄膜包含复数个共轭高分子,其中至少一共轭高分子具有拉伸的分子结构。藉此,本发明之高分子薄膜可使其所制成的光电元件具有良好的发光或发电效率。
申请公布号
TWI425695
申请公布日期
2014.02.01
申请号
TW097150547
申请日期
2008.12.24
申请人
国立清华大学 新竹市光复路2段101号
发明人
杨长谋
分类号
H01L51/52;H01L51/56
主分类号
H01L51/52
代理机构
代理人
王正利 台北市大安区忠孝东路4段130号5楼
主权项
地址
新竹市光复路2段101号
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