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发明名称
具有极低折射率的抗反射构造及含有此构造的装置
摘要
藉由分可分解性之团联共聚物,聚苯乙烯-b-聚(L-乳酸)(PS-PLLA),的自组装与后续的PLLA团块水解制得具有五角三八面体奈米通道(gyroid nanochannel)的奈米多孔聚合物。使用该奈米多孔PS作为模板进行溶液-凝胶反应得到具有位于PS主体内的SiO2五角三八面体奈米构造之良好定义的奈米混成材料。该PS主体被UV降解后会留下一高度多孔性五角三八面体网络,产生了一具有极低折射率(可低至1.1)的单一成份材料。
申请公布号
TWI425058
申请公布日期
2014.02.01
申请号
TW100101313
申请日期
2011.01.13
申请人
国立清华大学 新竹市光复路2段101号
发明人
何荣铭;薛涵宇;佘铭轩;陈虹颖;果尚志
分类号
C09D123/08;C09D133/20;C09D139/08;C09D167/00;G02B1/11
主分类号
C09D123/08
代理机构
代理人
陈展俊 台北市大安区和平东路2段203号4楼之2
主权项
地址
新竹市光复路2段101号
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