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发明名称
基板载置机构及具备该基板载置机构的基板处理装置
摘要
本发明之课题在于提供:可以更为提升温度均匀性之基板载置机构。;本发明的解决手段为具备:埋设有发热体(102)之石英制加热器本体(101);及被积载于石英制加热器本体(101)的被处理基板载置面(103)上之耐蚀性陶瓷构件(104)。
申请公布号
TWI425112
申请公布日期
2014.02.01
申请号
TW097120252
申请日期
2008.05.30
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
田中澄;小松智仁;川崎裕雄
分类号
C23C16/46;H01L21/205;H01L21/31;H05B3/74
主分类号
C23C16/46
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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