一种高饱和磁感强度和低铁损的铁基非晶薄带及其制备方法

摘要

本发明涉及磁性功能材料领域，涉及一种Fe基非晶态合金，所述Fe基非晶态合金的化学式为FeaSibBcCdOe，其中a为79至88at%，b为0.2至18at%，c为2至18at%，d为0.01至5at%，e为0.001至0.2at%。从所述Fe基非晶态合金的自由面或贴辊面两个表面到其内部的O浓度分布在深度1至20nm内出现富集层，且富集层厚度1-10nm，C浓度自表面开始逐步递减，并在浓度2-8nm处出现一个浓度平台，Si浓度在深度1-15nm处出现浓度最高值，B浓度在1-15nm处出现浓度最高值。本发明的Fe基非晶态合金的饱和磁感应强度Bs在1.62T以上，矫顽力Hc在3.6A/m以下，损耗P14/50在0.42W/kg以下，具有高饱和磁感应强度和低铁芯损耗，适用于变压器、发动机、发电机和扼流圈、磁传感器等。

主权项

一种高饱和磁感强度和低铁损的Fe基非晶薄带，其特征在于：其Fe基非晶合金的化学式为FeaSibBcCdOe，其中按原子百分比，a为100‑b‑c‑d‑e%，b为0.2至18%，c为2至18%，d为0.01至5%，e为0.001至0.2%；该非晶薄带的两侧面到中间，有至少一个元素偏析层，该元素偏析层与侧面距离为1‑20nm，偏析元素为O、C、Si或B中的至少一种；其中所述元素偏析层为：从所述Fe基非晶态合金的自由面或贴辊面两个表面到其内部的O浓度分布在深度1至20nm内出现富集层，且富集层厚度1‑10nm，C浓度自表面开始逐步递减，并在深度2‑8nm处出现一个浓度平台，Si浓度在深度1‑15nm处出现浓度最高值，B浓度在1‑15nm处出现浓度最高值。