发明名称 |
半导体器件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种具有外延LDD和Halo区域的晶体管器件及其制造方法。采用了外延与自对准各向异性刻蚀相结合的工艺,避免了现有的采用的离子注入以及退火工艺形成Halo和LDD区域制造方法中的问题,在不增加光刻掩膜数量和复杂性的基础上,彻底消除了离子注入造成的源漏区域凹槽表面处晶体结构的破坏,从而避免影响到后续源漏材料外的延生长,同时,本发明也不会因常规的离子注入而导致外延源漏的应力释放,从而保持了源漏应力及其抑制SCE和DIBL效应的效果。 |
申请公布号 |
CN103545213A |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201210246830.3 |
申请日期 |
2012.07.16 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
秦长亮;殷华湘 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
代理机构 |
北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 |
代理人 |
陈红 |
主权项 |
一种半导体器件制造方法,用于制造具有外延LDD和Halo区域的晶体管,其特征在于包括如下步骤:提供半导体衬底,在该半导体衬底上形成STI结构,并进行阱区注入;形成栅极绝缘层、栅极,定义栅极图形;形成栅极间隙壁,其覆盖在所述栅极的顶部以及所述栅极和所述栅极绝缘层的侧壁上;形成源漏区域凹槽;在所述源漏区域凹槽内外延Halo材料层,所述Halo材料层具有第一掺杂元素;外延源漏区域,其向晶体管沟道区域提供应力,所述源漏区域具有第二掺杂元素,且第二掺杂元素的类型与第一掺杂元素的类型相反;各向同性刻蚀所述源漏区域,去除部分所述源漏区域材料,同时,去除位于所述栅极间隙壁正下方的部分Halo材料层并向晶体管沟道区域延伸一定的距离,剩余的Halo材料层形成了晶体管的Halo区域;外延LDD材料层,形成晶体管的LDD区域;形成源漏接触。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3# |