发明名称 |
洗涤方法 |
摘要 |
本发明的洗涤方法,包括:涡流清洗设定步骤,设定涡流清洗,该涡流清洗是指,当通过使滚筒旋转来使洗涤物附着于所述滚筒旋转时,涡流喷嘴向所述滚筒内喷水的清洗;向外桶内供水的连续供水步骤;一般清洗步骤,在所述外桶内的水位到达目标水位所用的时间多于目标时间的情况下,解除所述涡流清洗,使得所述涡流喷嘴在通过使所述滚筒旋转来使洗涤物附着于所述滚筒进行旋转时不进行喷水。 |
申请公布号 |
CN103547724A |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201280025186.5 |
申请日期 |
2012.01.16 |
申请人 |
LG电子株式会社 |
发明人 |
林明训;张元赫;金星勋;徐镇优;吴洙永;徐宝星;俞尚喜;孙昌佑;柳捧坤;金光贤 |
分类号 |
D06F33/02(2006.01)I |
主分类号 |
D06F33/02(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
金相允 |
主权项 |
一种洗涤方法,包括:涡流清洗设定步骤,设定涡流清洗,该涡流清洗是指,当通过使滚筒旋转来使洗涤物附着于所述滚筒旋转时,涡流喷嘴向所述滚筒内喷水的清洗;向外桶内供水的连续供水步骤;一般清洗步骤,在所述外桶内的水位到达目标水位所用的时间多于目标时间的情况下,解除所述涡流清洗,使得所述涡流喷嘴在通过使所述滚筒旋转来使洗涤物附着于所述滚筒进行旋转时不进行喷水。 |
地址 |
韩国首尔市 |