发明名称 一种在铜表面电镀金属锰的方法
摘要 本发明涉及一种在铜表面电镀金属锰的方法,属于金属表面工程领域。通过研究硫酸盐体系的电沉积工艺,得出了铜基体上获得锰镀层的最佳镀液配方和工艺条件;并且操作过程简单,实验条件容易达到;电镀速度快,节省时间。铜表面的该镀层是具有高硬度和耐腐蚀性等优异性能的新型镀层,适合工业化生产和应用。
申请公布号 CN103540975A 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201310480041.0 申请日期 2013.10.11
申请人 上海大学 发明人 钟庆东;纪丹;顾帅帅;牟童;勒霞文
分类号 C25D3/54(2006.01)I;C25D5/34(2006.01)I 主分类号 C25D3/54(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 陆聪明
主权项 一种在铜表面电镀金属锰的方法,其特征在于,具有以下步骤:A.电镀溶液的配制,电镀溶液的组成有:MnSO4·H2O      0.3‑0.6mol/L,(NH4)2SO4       0.3‑0.6mol/L,Na3C6H5O7       0.1‑0.3mol/L,H3BO3           0.2‑0.5mol/L,用电子秤按量称取以上物质,在烧杯中溶解;使溶液体积不大于烧杯额定体积的四分之三;将配置的镀液用磁力搅拌器搅拌,并用饱和NaOH溶液调节镀液的pH值到5.5;B.电极处理:对阴极基体,即铜板进行除油、除锈和表面抛光等预处理,具体操作是:将欲处理铜片的工作面经金相砂纸打磨,然后进行机械抛光,用无水乙醇和去离子水依次超声清洗,干燥后备用;C.电沉积过程:阳极采用231型铂电极,阴极为待镀铜片,选择4‑10 A/dm2的电流密度在烧杯镀液中进行电镀;电沉积时间为3‑10分钟;电沉积过程中对镀液进行电磁搅拌;电镀结束后立即取出铜片,用蒸馏水清洗后并用冷风烘干。
地址 200444 上海市宝山区上大路99号