发明名称 |
真空制程设备、真空传输制程设备及方法 |
摘要 |
本发明公开了一种真空制程设备,其包括:至少一传输平台,所述传输平台具有n个尺寸相同且沿着所述传输平台的移动方向延伸的用于承载工件的工件承载区域,每个工件具有n个待加工区域;n个加工装置,各加工装置的加工介质用于一一对应地对工件的各待加工区域进行加工;一控制装置,用于使各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台在与所述传输平台的移动方向垂直的方向上发生相互独立的相对移动;每个加工装置的加工介质对各工件承载区域中的各工件的相应待加工区域进行加工。本发明还公开了三种真空制程方法,以及三种真空传输制程设备及方法。本发明能够实现极高的生产效率。 |
申请公布号 |
CN102403392B |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201010274744.4 |
申请日期 |
2010.09.07 |
申请人 |
上海凯世通半导体有限公司 |
发明人 |
钱锋 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
薛琦;朱水平 |
主权项 |
一种真空制程设备,其包括一真空制程腔,其特征在于,该真空制程设备还包括:至少一可以在该真空制程腔中移动的传输平台,所述传输平台具有n个尺寸相同且沿着所述传输平台的移动方向延伸的用于承载工件的工件承载区域,n为大于或等于2的自然数,每个工件具有n个待加工区域;n个设于该真空制程腔中的加工装置,各加工装置的加工介质用于一一对应地对工件的各待加工区域进行加工,各加工装置的加工介质能够穿过所述传输平台、但无法穿过工件;一控制装置,用于使各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台在与所述传输平台的移动方向垂直的方向上发生相互独立的相对移动;所述传输平台的移动以及各加工装置的加工介质作用区域与所述传输平台的相对移动,使得每个加工装置的加工介质对各工件承载区域中的各工件的相应待加工区域进行加工。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路200号7号楼1号 |