发明名称 |
一种用于等离子喷淋头的保护材料及其制备方法和应用方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于等离子喷淋头的保护材料,涉及半导体刻蚀技术中用到的等离子设备的抗腐蚀技术,主要由作为主体材料的氧化镁,以及在主体材料中掺杂的含量为0.5~3wt%的氧化钙和含量为0.5~5wt%的氧化钇组成。本发明还提供了该保护材料的制备方法和应用方法,通过该保护材料的设置,能够明显提高等离子喷淋头长时间处于高等离子体环境下的耐腐蚀性能,延长等离子喷淋头的使用寿命,从而降低半导体材料的生产成本。 |
申请公布号 |
CN103539433A |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201310457370.3 |
申请日期 |
2013.09.30 |
申请人 |
成都超纯应用材料有限责任公司 |
发明人 |
柴林 |
分类号 |
C04B35/04(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/04(2006.01)I |
代理机构 |
成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 |
代理人 |
李崧岩 |
主权项 |
一种用于等离子喷淋头的保护材料,其特征在于,主要由作为主体材料的氧化镁,以及在主体材料中掺杂的含量为0.5~3wt%的氧化钙和含量为0.5~5wt%的氧化钇组成。 |
地址 |
610000 四川省成都市双流县西南航空港经济开发区工业集中区内 |