一种基于表面等离子体的波导光耦合器及其制备工艺

摘要

一种基于表面等离子体的波导光耦合器及其制备工艺。首先在半导体硅（Si）上制备氧化锌（ZnO）薄膜，然后在此薄膜上溅射银（Ag）颗粒，从而制备出光耦合器的波导层。通过优化波导结构和几何参数，产生表面等离子体增强效果，从而使光在波导中传播时不再受衍射极限的限制。

主权项

一种基于表面等离子体的波导光耦合器的波导层制备方法，其特征在于，包括如下步骤：首先在硅(Si)基底(1)上通过射频磁控溅射工艺沉积金属氧化物薄膜(2)，所述金属氧化物薄膜为ZnO薄膜，金属氧化物薄膜(2)的溅射功率为150W，转速为15r/min，溅射时间为7min，薄膜的厚度为40nm；其后通过气相沉积工艺对薄膜在大气气氛下进行热处理，保温后，再通过直流磁控溅射工艺沉积金属银(Ag)颗粒(3)，由溅射时间来控制Ag颗粒(3)的形貌和厚度，Ag颗粒(3)溅射电流为0.3A，溅射时间为30s。