发明名称 用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备
摘要 本实用新型公开一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备,包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等,其特征是:一个钟罩式真空腔固定在一个支架上,其真空腔内设有多个靶电极,在钟罩式真空室的下方,放置一个可以上下移动的圆形工件台,在该工件台上设有圆筒工件定位支架,当把工件台升起后,该工件台与钟罩式真空室形成真空密封,这时靶电极是插放在圆筒工件的中心位置,在靶电极接通电源后,在靶电极周围形成溅射等离子体,并溅射出靶上的粒子沉积在圆筒工件的内表面,在靶电极和圆筒工件之间可以施加偏压电场增加沉积层的结合力。该装置是用来涂覆圆筒工件的内壁,从而提高圆筒工件内壁的硬度和耐摩性能。
申请公布号 CN203411602U 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201320303370.3 申请日期 2013.05.30
申请人 刘玮;王守国 发明人 刘玮;王守国
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 本实用新型公开一种用于圆筒内壁的钟罩式镀膜设备,包括一个内设多个靶电极的钟罩式真空腔体、可以上下移动的工件台、电源、真空系统等,其特征是:一个钟罩式真空腔固定在一个支架上,其真空腔内设有多个靶电极,在钟罩式真空室的下方,放置一个可以上下移动的圆形工件台,在该工件台上设有圆筒工件定位支架,当把工件台升起后,该工件台与钟罩式真空室形成真空密封,这时靶电极是插放在圆筒工件的中心位置,在靶电极接通电源后,在靶电极周围形成溅射等离子体,并溅射出靶上的粒子沉积在圆筒工件的内表面,在靶电极和圆筒工件之间可以施加偏压电场增加沉积层的结合力。 
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