曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法

摘要

本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

主权项

一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于具备:投影光学系统，将图形像投影到基板上;液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间;和液体回收机构，回收由上述液体供给机构供给的液体，在基于由上述液体供给机构所供给的液体的供给量和由上述液体回收机构所回收的液体的回收量的至少一方检测出异常时停止液体的供给。