发明名称 一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置
摘要 本发明涉及一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置,该方法包括:在单晶炉内安装用于加热和保温形成热场的多个热场部件,其水平同中心安装;将内嵌有铱金模具的带盖铱金坩埚放入热场中心;将特定取向的β-Ga2O3籽晶固定于籽晶夹具;将氧化镓原料放入铱金坩埚内,盖好铱金坩埚盖;抽真空后按混合气比例Ar:CO2=9:1~8:2充至炉腔压强为1.05~1.5MPa;感应加热使氧化镓原料完全融化;烤籽晶5~10分钟后接种;待籽晶与熔体充分熔接后引晶缩颈,直至籽晶截面尺寸缩小至1~2mm;扩肩生长阶段;等径生长阶段;晶体生长结束完全脱离模具顶端时停止提拉,缓慢降至室温,获得透明完整无晶界的高质量片状氧化镓单晶。
申请公布号 CN103541008A 申请公布日期 2014.01.29
申请号 CN201310559528.8 申请日期 2013.11.12
申请人 上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 唐慧丽;徐军;钱小波;罗平;姜大朋;吴锋;王静雅;唐飞
分类号 C30B29/16(2006.01)I;C30B15/36(2006.01)I 主分类号 C30B29/16(2006.01)I
代理机构 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人 曹芳玲;郑优丽
主权项 一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法,其特征在于,包括:a) 在单晶炉内安装用于加热和保温形成热场的多个热场部件,所述多个热场部件水平且同中心地安装;b) 将内嵌有铱金模具的带盖铱金坩埚放入所述热场的中心;c) 将[010]或[001]特定取向的β‑Ga2O3籽晶放入籽晶夹具内并捆绑固定;d) 将纯度为99.99~99.999%的氧化镓原料放入所述铱金坩埚内,盖好铱金坩埚盖;e) 依次开启机械泵、扩散泵将炉腔抽真空至5.0×10‑3Pa时关闭真空设备,按照混合气比例Ar:CO2=9:1~8:2缓慢充至炉腔压强为1.05~1.5MPa,所述Ar和CO2气体的纯度为99.999%;f) 中频感应加热升温至1870±5℃,恒温0.5~1小时,使氧化镓原料完全融化;g) 缓慢下降籽晶至籽晶距离模具顶端上方3~5mm位置进行烤籽晶,5~10分钟后开始接种;h)待籽晶与熔体充分熔接后进行引晶缩颈操作,直至籽晶截面尺寸缩小至1~2mm,以避免籽晶的原有缺陷延伸到晶体内部,实现单晶生长;i)  扩肩生长阶段,提拉速度5~15mm/小时,按照10~20℃/小时降温速率进行降温生长,使晶体横向扩满至整个模具,控制扩肩角为90~120°;j) 等径生长阶段,提拉速度5~15mm/小时,恒温生长;k) 晶体生长结束完全脱离模具顶端时停止提拉,缓慢降至室温,即获得透明、完整、无晶界的高质量片状氧化镓单晶。
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