发明名称 |
分区多靶磁控溅射设备 |
摘要 |
本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等,其特征是:在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室,在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室,每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,在中间靶腔室中设有一个导辊,该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘,在导辊和壳体之间可以施加电场偏压,在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导辊穿过彼此贯通的腔室,靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。该装置用来在薄膜的表面沉积不同的靶材料,具有靶材料之间彼此不污染、沉积膜层结合力好、真空状态下连续沉积的特点。 |
申请公布号 |
CN203411601U |
申请公布日期 |
2014.01.29 |
申请号 |
CN201320303369.0 |
申请日期 |
2013.05.30 |
申请人 |
刘玮;陈强;王守国 |
发明人 |
刘玮;陈强;王守国 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等,其特征是:在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室,在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室,每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,在中间靶腔室中设有一个导辊,该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘,在导辊和壳体之间可以施加电场偏压,在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导辊穿过彼此贯通的腔室,靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。 |
地址 |
100049 北京市海淀区阜石路35号兰德华庭3-4-1002 |