| 摘要 |
1. Способ получения направленного экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения для проекционной литографии высокого разрешения, основанный на использовании линейчатого излучения многозарядных ионов в заданном диапазоне ЭУФ, для создания и возбуждения которых применяют плазму ограниченного размера, нагрев электронов в которой осуществляют мощным электромагнитным излучением, а формирование направленного ЭУФ излучения производят с помощью рентгеновского зеркала нормального падения, в фокусе которого помещают упомянутую плазму ограниченного размера, отличающийся тем, что плазму предварительно формируют сторонним узконаправленным инжектором, после чего нагрев электронов плазмы производят в магнитном поле в условиях электронно-циклотронного резонанса мощным электромагнитным излучением миллиметрового или субмиллиметрового диапазона длин волн в непрерывном режиме, а для формирования плазмы ограниченного размера используют упомянутое магнитное поле и уменьшающее поперечные размеры плазмы отверстие на оси симметрии рентгеновского зеркала, при этом рабочую сторону рентгеновского зеркала изолируют от потоков плазмы, нейтральных капель материала катода и энергичных частиц.2. Источник направленного экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения для проекционной литографии высокого разрешения на основе плазмы ограниченных размеров с многозарядными ионами, содержащий генератор электромагнитного излучения, обеспечивающий нагрев плазмы, образование и возбуждение упомянутых многозарядных ионов, линии излучения которых лежат в заданном диапазоне ЭУФ, и рентгеновское зеркало, рабочая сторон |
