发明名称 |
VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE |
摘要 |
Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (10), die insbesondere für EUV-Licht ausgelegt ist, enthält ein Objektiv (26) mit einem adaptiven Spiegel (M2), der seinerseits ein Spiegelsubstrat (44) und eine Aktuierungseinheit (42) zum Verformen des Spiegelsubstrats (44) umfasst. Unter Verwendung von zuvor gemessenen Abbildungsfehlern wird ein Satz von Steuerbefehlen für die Aktuierungseinheit (42) bestimmt, bei dessen Übergabe an die Aktuierungseinheit (42) sich das Spiegelsubstrat (44) so verformt, dass die zuvor gemessen Abbildungsfehler korrigiert werden. Dieser Satz von Steuerbefehlen wird in einem nicht flüchtigen Datenspeicher (66) gespeichert und an die Aktuierungseinheit (42) übergeben. Wenn nach längeren Betriebsdauern der Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage unterbrochen wird, kann durch einfaches Nachladen der gespeicherten Steuerbefehle der vorher vorhandene Korrekturzustand rasch wieder hergestellt werden, ohne dass eine erneute Messung der Abbildungsfehler des Objektivs (26) erforderlich ist. |
申请公布号 |
DE102012212757(A1) |
申请公布日期 |
2014.01.23 |
申请号 |
DE201210212757 |
申请日期 |
2012.07.20 |
申请人 |
CARL ZEISS SMT GMBH |
发明人 |
BITTNER, BORIS;WABRA, NORBERT;SCHNEIDER, SONJA;SCHNEIDER, RICARDA;WAGNER, HENDRIK;ILIEW, RUMEN |
分类号 |
G03F7/20;G02B5/10;G02B17/08;G02B26/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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