| 摘要 |
Eine Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie umfasst mehrere, einen Belichtungsstrahlengang bildenden, optische Komponenten (M1–M6) sowie eine Abstandsmessvorrichtung (30, 130, 230) zur Vermessung eines Abstandes zwischen mindestens einer der optischen Komponenten (M1–M6) und einem Referenzelement (40, 140, 240). Die Abstandsmessvorrichtung umfasst einen Frequenzkammgenerator (32, 132, 232), welcher dazu konfiguriert ist, elektromagnetische Strahlung (36, 236) mit einem kammförmigen Frequenzspektrum zu erzeugen. |
