| 摘要 |
<P>DISPOSITIF POUR DIRIGER DES PARTICULES A CHARGE ELECTRIQUE VERS UNE CIBLE SITUEE SUR UN ENDROIT DE FIXATION D'UN SUPPORT. LE DISPOSITIF EST MUNI D'UN SYSTEME DE DEVIATION ELECTROSTATIQUE A PLAQUES DE DEVIATION POUR DEVIER UN FAISCEAU DE PARTICULES CHARGEES SUIVANT DEUX DIRECTIONS ORTHOGONALES SUR LA CIBLE, CES PLAQUES DE DEVIATION ETANT PORTEES A UNE TENSION DESIREE A L'AIDE D'UN SYSTEME DE REGLAGE ELECTRONIQUE, ALORS QUE DE PART ET D'AUTRE DE LA CIBLE SONT ELABORES DEUX BARREAUX ADJACENTS EN MATERIAU ELECTRIQUEMENT CONDUCTEUR, CHAQUE BARREAU ETANT BRANCHE SUR UN POTENTIEL INVARIABLE A TRAVERS UNE RESISTTANCE ET LESDITS BARREAUX ETANT EN OUTRE RACCORDES A UN DISPOSITIF QUI REAGIT A UNE TENSION QUI SE PRODUIT AUX EXTREMITES D'UNE RESISTANCE LORSQUE LE FAISCEAU DE PARTICULES A CHARGE ELECTRIQUE FRAPPE UN BARREAU, CORRESPONDANT ET QUI, DANS LE CAS OU A L'OCCASION DE SA COURSE LE FAISCEAU FRAPPE UNE COMBINAISON DE BARREAUX AUTRE QUE CELLE FORMEE PAR LES BARREAUX INTERNES, PROVOQUE UNE TENSION DE CORRECTION POUR LE REGLAGE DES PLAQUES DE DEVIATION.</P><P>APPLICATION AUX DISPOSITIFS D'IMPLANTATION D'IONS.</P>
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